超越半導體製程的極限：極紫外光微影（二集之二）

今後幾年晶片的應用會持續擴張，晶片的需求也會不斷成長，而傳統的193奈米微影技術已達到極限，必須以13.5奈米極紫外光技術替代。極紫外光微影是在半导体业历史上公认的最难做到完美的一项技术，其艰辛程度可比NASA的登月计画。