超越半导体制程的极限：极紫外光微影（二集之二）

今后几年晶片的应用会持续扩张，晶片的需求也会不断成长，而传统的193奈米微影技术已达到极限，必须以13.5奈米极紫外光技术替代。极紫外光微影是在半导体业历史上公认的最难做到完美的一项技术，其艰辛程度可比NASA的登月计画。