ਖੋਜ
ਪੰਜਾਬੀ
  • English
  • 正體中文
  • 简体中文
  • Deutsch
  • Español
  • Français
  • Magyar
  • 日本語
  • 한국어
  • Монгол хэл
  • Âu Lạc
  • български
  • Bahasa Melayu
  • فارسی
  • Português
  • Română
  • Bahasa Indonesia
  • ไทย
  • العربية
  • Čeština
  • ਪੰਜਾਬੀ
  • Русский
  • తెలుగు లిపి
  • हिन्दी
  • Polski
  • Italiano
  • Wikang Tagalog
  • Українська Мова
  • ਹੋਰ
  • English
  • 正體中文
  • 简体中文
  • Deutsch
  • Español
  • Français
  • Magyar
  • 日本語
  • 한국어
  • Монгол хэл
  • Âu Lạc
  • български
  • Bahasa Melayu
  • فارسی
  • Português
  • Română
  • Bahasa Indonesia
  • ไทย
  • العربية
  • Čeština
  • ਪੰਜਾਬੀ
  • Русский
  • తెలుగు లిపి
  • हिन्दी
  • Polski
  • Italiano
  • Wikang Tagalog
  • Українська Мова
  • ਹੋਰ
ਟਾਈਟਲ
ਉਤਾਰਾ
ਅਗੇ ਆ ਰਿਹਾ
 

Transcending the Limits of Microchip Fabrication:Extreme UV Lithography, Part 2 of 2

ਵਿਸਤਾਰ
ਡਾਓਨਲੋਡ Docx
ਹੋਰ ਪੜੋ
In the coming years, the application of microchips will continue to expand, the demand for chips will also continue to grow. However, the traditional 193 nm lithography has reached its limit and must be replaced with its 13.5 nm EUV counterpart. It is generally agreed that EUV lithography is the most difficult technology to perfect in the history of the semiconductor industry — so challenging that it is comparable to NASA’s Moon landing project.
ਹੋਰ ਦੇਖੋ
ਸਾਰੇ ਭਾਗ  (2/2)
1
2018-10-27
5453 ਦੇਖੇ ਗਏ
2
2018-11-03
5491 ਦੇਖੇ ਗਏ
ਹੋਰ ਦੇਖੋ
ਸਭ ਤੋਂ ਨਵੀਨ ਵੀਡੀਓਆਂ
39:28
2024-11-23
182 ਦੇਖੇ ਗਏ
2024-11-23
154 ਦੇਖੇ ਗਏ
2024-11-23
125 ਦੇਖੇ ਗਏ
2024-11-23
617 ਦੇਖੇ ਗਏ
1:24

ਬੈਕੁੰਠ ਲਈ ਪੁਲ

1625 ਦੇਖੇ ਗਏ
2024-11-22
1625 ਦੇਖੇ ਗਏ
27:23
2024-11-22
169 ਦੇਖੇ ਗਏ
2024-11-22
205 ਦੇਖੇ ਗਏ
2024-11-22
180 ਦੇਖੇ ਗਏ
ਸਾਂਝਾ ਕਰੋ
ਸਾਂਝਾ ਕਰੋ ਨਾਲ
ਵੀਡੀਓ ਏਮਬੈਡ ਕਰੋ
ਸ਼ੁਰੂਆਤ ਦਾ ਸਮਾਂ
ਡਾਓਨਲੋਡ
ਮੋਬਾਈਲ
ਮੋਬਾਈਲ
ਆਈਫੋਨ
ਐਨਡਰੌਏਡ
ਦੇਖੋ ਮੋਬਾਈਲ ਬਰਾਉਜ਼ਰ ਵਿਚ
GO
GO
Prompt
OK
ਐਪ
ਸਕੈਨ ਕਰੋ ਕਿਉ ਆਰ ਕੋਡ ਜਾਂ ਚੋਣ ਕਰੋ ਸਹੀ ਫੋਨ ਸਿਸਟਮ ਡਾਓਨਲੋਡ ਕਰਨ ਲਈ
ਆਈਫੋਨ
ਐਂਡਰੌਏਡ